eVoS LE 偏置波形发生器_北京融源科技有限公司

功率输出系统

Advanced Energy 经过现场验证的 Precision Power™ 解决方案可在各种等离子电源应用中提供同类产品最佳的控制和稳定性。我们全面的功率输出技术 40 多年来不断引领工艺创新，并将与我们的合作伙伴一起继续推动技术向前发展。

功率输出系统

直接控制衬底电压和离子能的非对称偏置波形发生器

eVoS LE 偏置波形发生器

eVoS™LE是一种非对称偏置波形发生器，旨在实现对基于等离子体的蚀刻和沉积工艺中晶圆表面电压和由此产生的离子能量分布（IED）的直接控制。eVoS系统由双向电压电源与独立电流源相结合，以建立和控制晶圆表面电位。eVoS的非对称输出消除了正弦射频偏置应用所固有的晶圆偏置的限制和限制。快速数字计量和新的控制算法使生产接近单能量的IED成为可能。使用附加参数来定制晶圆表面电压的平均和时变方面以及由此产生的离子能量分布。

特点规格技术文档

特点

产生接近单能离子能量分布的能力
具有同步所需输入和输出信号的脉冲能力
集成设计和紧凑的尺寸消除了对匹配网络的需求
高速计量提供实时偏置电压和离子电流反馈
窄、宽和多峰值分布
适用于标准腔室接口
实现对晶片偏置电压和由此产生的离子能量的直接控制
与RF偏置方法相比，增益增强的离子能量选择/辨别
显著提高蚀刻选择性，实现更短的工艺和更直、更深的特征
通过使用“正确的功率”来减少功率，只提供有用的离子能量
简化偏置功率集成

规格

技术文档

eVos LE Data Sheet