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利用 Advanced Energy 全面的直流和脉冲直流套件推进等离子工艺创新，在提高沉积率、改善薄膜平整度和堆积密度的同时最大限度减少电弧。
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Pinnacle Plus+发生器以脉冲配置提供直流电，从而实现极其均匀、高质量的介电膜的反应溅射。 反向脉冲期间的电荷清除可防止电弧发展 通过频率和占空比控制可调节过程 紧凑型风冷设计，可扩展至主/卫星配置
Pinnacle Plus Data Sheet
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