AE 为半导体沉积提供全面的产品组合，包括等离子电源输送、温度测量、温度控制和晶圆控制解决方案。
AE 等离子功率传输、温度测量、温度控制和晶圆控制解决方案的精确性能和精密控制有助于提高可重复性和产量。
我们提供各种射频、直流和脉冲直流电源输送系统以及各种匹配网络，以满足特定的工艺要求。
通过全面的解决方案组合加强工艺控制
Advanced Energy 的射频等离子体功率传输和高速匹配技术可为要求苛刻的 PECVD 和 PEALD 沉积工艺提供性能定制和优化。我们的直流技术可为 PVD (溅射) 和 ECD 沉积工艺提供可配置电弧响应、功率精度和工艺可重复性。 我们还提供温度监控、温度控制和晶圆控制技术，可在制造工艺的多个环节实现精确控制。
